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低剩余反射率增透镀膜定制
产品基于硅、锗及硫化锌等红外基底材料,通过精密膜系设计及不同红外材料结合镀制,满足低应力、低剩余反射率的技术要求。产品适用于各类红外光学设备。
参数 | 描述 |
镀制面型 | 平面、球面、棱镜 |
镀制基底 | 硅、锗、ZnSe、ZnS、CaF2 |
镀制口径 | ≤ 480 mm(直径或对角线) |
光学性能 |
反射率 ≤ 0.2% |
显微硬度 | ≤510 MPa |
环境适应性 | 一次性通过GJB2485A中高低温、湿热等试验 |
备注 | 具备较低剩余反射率,应用于红外光学系统中可显著提升成像效果 |
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