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平面电磁屏蔽金属网栅镀膜定制
产品实现了高电磁屏蔽效能及光学特性,具备网栅结构线宽细、衍射影响小及屏蔽效能高的技术特点,技术水平处国内领先地位。本产品可应用于各类平台光电装备。
参数 | 描述 |
镀制面型 | 平面 |
镀制基底 | K9、石英、蓝宝石、硅、锗等 |
镀制口径 | ≤ 700 mm(直径或对角线) |
光学性能 | 透过率下降 ≤ 10% |
屏蔽效能 | ≥ 20dB(屏蔽波段范围 1 GHz~18 GHz) |
环境适应性 | 一次性通过GJB2485中高低温、湿热、温度冲击等试验 |
备注 | 网栅线宽细、衍射效益低,屏蔽波段范围宽,满足光学系统成像、屏蔽需求 |
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